特許
J-GLOBAL ID:200903008146410800
多層膜の膜厚測定方法及び膜厚測定装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-276527
公開番号(公開出願番号):特開2005-037315
出願日: 2003年07月18日
公開日(公表日): 2005年02月10日
要約:
【課題】非接触式の薄膜上に塗布された薄膜の正確な膜厚測定方法および膜厚測定装置を提供する。【解決手段】基板上に膜厚の被測定膜を含む少なくとも2層の多層膜を有し、被測定膜の下に少なくとも1層の膜を有し、かつ被測定膜の下にある膜の膜厚は被測定膜の膜厚よりも十分薄い構造の多層膜構造について上記膜厚の被測定膜の膜厚を測定する多層膜の膜厚測定方法であって、薄膜の反射光の分光反射率を測定し、分光反射率データを有限個サンプリングしてフーリエ変換し、被測定膜の下層の膜の膜厚及び屈折率と被測定膜の屈折率を既知として、変換して得られたスペクトルから被測定膜の膜厚を求めるに際し、得られたスペクトルのピーク位置に対応する光学膜厚に被測定膜の下層の膜による重みを加え、前記のピークを複数のピークの重ね合わせとして、上記被測定膜の膜厚を算出することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板上に膜厚の被測定膜を含む少なくとも2層の多層膜を有し、被測定膜の下に少なくとも1層の膜を有し、かつ被測定膜の下にある膜の膜厚は被測定膜の膜厚よりも十分薄い構造の多層膜構造について上記膜厚の被測定膜の膜厚を測定する多層膜の膜厚測定方法であって、
薄膜の反射光の分光反射率を測定し、
分光反射率データを有限個サンプリングしてフーリエ変換し、
被測定膜の下層の膜の膜厚及び屈折率と被測定膜の屈折率を既知として、変換して得られたスペクトルから被測定膜の膜厚を求めるに際し、
得られたスペクトルのピーク位置に対応する光学膜厚に被測定膜の下層の膜による重みを加え、前記のピークを複数のピークの重ね合わせとして、上記被測定膜の膜厚を算出することを特徴とする多層膜の膜厚測定方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
2F065AA30
, 2F065BB17
, 2F065CC31
, 2F065FF41
, 2F065FF51
, 2F065GG02
, 2F065LL02
, 2F065LL21
, 2F065LL42
, 2F065LL67
, 2F065QQ16
引用特許:
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