特許
J-GLOBAL ID：200903008184037358
有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-163953
公開番号（公開出願番号）：特開2005-259717
出願日： 2005年06月03日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】インクジェット方式で基板上に有機EL材料を吐出、塗布し有機EL層を形成する有機EL装置の製造において、有効光学領域画素間および各画素内で有機EL薄膜の膜厚を均一にする。【解決手段】表示に関係する表示画素が複数配置された有効光学領域と表示に関係しない第1ダミー領域とを含む有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域が、複数の有効光学領域群を有する有機エレクトロルミネッセンス装置用基板を用いた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記有効光学領域群の周囲に、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域を囲むように第2ダミー領域を形成する工程と、前記第1ダミー領域、前記第2ダミー領域及び前記表示画素に、有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を形成する工程と、を含む有機EL薄膜の製造方法。【選択図】 図12
請求項（抜粋）：
表示に関係する表示画素が複数配置された有効光学領域と表示に関係しない第1ダミー領域とを含む有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域が、複数の有効光学領域群を有する有機エレクトロルミネッセンス装置用基板を用いた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記有効光学領域群の周囲に、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域を囲むように第2ダミー領域を形成する工程と、
前記第1ダミー領域、前記第2ダミー領域及び前記表示画素に、有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を形成する工程と、
前記有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域の周囲に沿って、前記有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域を切り離す工程と、
を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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