特許
J-GLOBAL ID:200903008301003699
水素含有ガス利用システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
杉村 憲司
, 杉村 興作
, 来間 清志
, 藤谷 史朗
, 澤田 達也
, 冨田 和幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-064265
公開番号(公開出願番号):特開2009-221864
出願日: 2008年03月13日
公開日(公表日): 2009年10月01日
要約:
【課題】高いエネルギー効率で水素含有ガス中の水素及びその他のガスを利用することが可能な水素含有ガスの利用システムを提供する。【解決手段】水素化装置1と、発電装置3とを具え、前記水素化装置1において、水素含有ガスを用いて芳香族炭化水素を水素化し、該水素化反応生成物中のガス分を前記発電装置3に供給することを特徴とする水素含有ガス利用システムである。該水素含有ガス利用システムは、更に、気液分離装置2を具え、該気液分離装置2において、前記水素化反応生成物をガス分と液分とに分離することが好ましい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
水素化装置と、発電装置とを具え、
前記水素化装置において、水素含有ガスを用いて芳香族炭化水素を水素化し、該水素化反応生成物中のガス分を前記発電装置に供給することを特徴とする水素含有ガス利用システム。
IPC (6件):
F02C 3/22
, C10G 45/44
, H01M 8/12
, H01M 8/06
, F02C 6/00
, F02C 7/22
FI (7件):
F02C3/22
, C10G45/44
, H01M8/12
, H01M8/06 R
, F02C6/00 E
, F02C6/00 B
, F02C7/22 D
Fターム (8件):
4G140AA42
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EA09
, 4G140EB01
, 5H026AA06
, 5H027AA06
, 5H027DD05
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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低級炭化水素直接改質複合装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-014049
出願人:市川勝
-
水素の精製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-235127
出願人:千代田化工建設株式会社
-
エネルギー供給システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-153487
出願人:若畑由紀夫, 熊谷今日子, 安部俊廣
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