特許
J-GLOBAL ID：200903008319380465
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-111401
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297496
出願日： 1998年04月08日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】 30〜300MHzの高周波電力を利用してプラズマ処理をする場合に、容器内伝送路の構造を、径の異なる二つの同軸線をラジアル線でつないだ構造にして、装置の重量を軽くする。【解決手段】 カソード電極54は大径部分56と細長い小径部分58とからなり、大径部分56の上端面はプラズマ生成空間76に面している。大径部分56の上端面には被処理基板66を載せる。小径部分58の下端はマッチング回路60を介して高周波電源62に接続する。容器内伝送路は、大径同軸線と小径同軸線とこれらをつなぐラジアル線からなる。大径同軸線は、大径部分56と第1側壁42と絶縁体70とで構成される。ラジアル線は、大径部分56の下面と底板46の上面とギャップ72とによって構成される。小径同軸線は、小径部分58と第2側壁68とギャップ74とで構成される。二つの同軸線とラジアル線との間では適切なインピーダンス整合をとっている。
請求項（抜粋）：
次の(イ)〜(ヘ)を備え、(ト)〜(リ)の特徴を有するプラズマ処理装置。(イ)真空容器。(ロ)真空容器を排気できる排気装置。(ハ)真空容器に放電ガスを導入するガス導入装置。(ニ)30〜300MHzの範囲内の高周波電力を供給する高周波電源。(ホ)真空容器の内部に前記高周波電力を伝送する容器内伝送路。(ヘ)高周波電源と容器内伝送路との間に設けられたマッチング回路。(ト)前記容器内伝送路は、第1の同軸線と、第1の同軸線よりも径の小さい第2の同軸線と、第1の同軸線と第2の同軸線とをつなぐラジアル線とから構成されている。(チ)第1の同軸線の外側導体と第2の同軸線の外側導体はいずれも真空容器が兼用している。(リ)第1の同軸線の端面はプラズマ生成空間に面しており、第2の同軸線は前記マッチング回路に接続されている。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
H05H 1/46 L
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
