高機能被膜形成基体、及び該基体の形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安富耕二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-265389
公開番号（公開出願番号）：特開2000-094564
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：

【要約】【課題】従来、高硬度性、及び清浄(抗菌)作用の双方の特性を備えた基体、特に刃を搭載したシェーバーが開発されていなかった。【解決手段】母材の一方の主面に光触媒反応による抗菌作用を持つ被膜が形成され、他方の主面に硬質炭素被膜が形成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

母材の一方の主面に光触媒反応による清浄作用を持つ被膜が形成され、他方の主面に硬質被膜が形成されていることを特徴とする高機能被膜形成基体。

IPC (10件)：

B32B 7/02 , A01N 59/16 , B26B 19/00 , B26B 21/60 , C23C 14/06 , C23C 16/26 , F16C 33/12 , F16C 33/16 , F16C 33/24 , C23C 16/517

FI (10件)：

B32B 7/02 , A01N 59/16 , B26B 19/00 B , B26B 21/60 , C23C 14/06 P , C23C 16/26 Z , F16C 33/12 Z , F16C 33/16 , F16C 33/24 A , C23C 16/50 H

引用特許：

出願人引用 (5件)

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審査官引用 (5件)

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