薄膜磁気ディスクおよびシリコンウェハ上の薄膜層の厚み、反射率、粗度、表面輪郭および磁気パターンを同時に測定するシステムおよび方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-528415
公開番号（公開出願番号）：特表2003-528413
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2003年09月24日
要約：

【要約】薄膜より成る保護層の実質的にブルースター角ではない様々な角度にいて、各磁気的作像、光学的輪郭形成、および、薄膜磁気ディスクやシリコンウェハ表面の潤滑剤厚み並びに潤滑剤劣化、炭素摩耗、炭素厚み、表面粗度の測定を実施するためのシステムおよび方法。焦点合わせされると共に偏光性がPもしくはS偏光性の間で切換えられ得る光学的光は、薄膜磁気ディスクの表面に対して所定角度で入射する。これにより、薄膜ヘッドの相互作用に依る潤滑剤厚みの変化、絶対的潤滑剤厚み、および、潤滑剤の劣化が容易に測定され得る。これによれば更に、炭素厚みおよび絶対的炭素厚みの変化も測定され得る。表面粗度もまた測定され得る。本発明は、また、化学機械研磨プロセス(CMP)により磨かれたシリコンウェハの湾曲、摩耗を測定可能である。また、既述したあらゆる角度において面粗度が測定可能である。偏光した反射光の回転を測定してカー効果が特定可能である。

請求項（抜粋）：

直線偏光された光信号を垂直から0°および垂直から90°の間の角度である第1角度にて磁気ディスクに向けて送出して上記磁気ディスクに衝当することで、実質的に上記第1角度にて上記磁気ディスクから上記レーザ光の反射成分を反射させると共に、上記レーザ光の散乱成分を引き起こす段階と、上記反射成分を受信する段階と、上記散乱成分を受信する段階と、上記反射成分および散乱成分に基づき潤滑剤厚みを決定する段階と、反射された偏光の平面内における回転を測定することで、反射の箇所における上記磁気ディスクの磁気的特性を決定する段階と、を備えた、炭素層を有する薄膜磁気ディスク上で縦カー効果および潤滑剤厚みを測定する方法。

IPC (5件)：

G11B 5/84 , G01B 11/06 , G01N 21/21 , G01N 21/47 , G01N 21/95

FI (5件)：

G11B 5/84 C , G01B 11/06 Z , G01N 21/21 Z , G01N 21/47 Z , G01N 21/95 A

Fターム (54件)：

2F065AA30 , 2F065AA50 , 2F065AA51 , 2F065AA54 , 2F065BB03 , 2F065BB16 , 2F065CC19 , 2F065CC31 , 2F065DD04 , 2F065FF04 , 2F065FF41 , 2F065FF49 , 2F065GG04 , 2F065GG07 , 2F065HH12 , 2F065HH13 , 2F065JJ08 , 2F065JJ26 , 2F065LL12 , 2F065LL21 , 2F065LL26 , 2F065LL46 , 2F065MM04 , 2F065QQ03 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ43 , 2G051AA51 , 2G051AA71 , 2G051AA90 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BB01 , 2G051CA02 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051CC11 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EC02 , 2G059AA05 , 2G059BB16 , 2G059DD13 , 2G059EE02 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059HH02 , 2G059JJ16 , 2G059KK01 , 2G059MM01 , 2G059MM02 , 2G059MM09 , 5D112JJ03

引用特許：

審査官引用 (6件)

光学的測定システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-263624 出願人：エイチデーアイインストロメンテーション
面内方向磁化磁性体の広領域磁性評価装置及びその評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-048413 出願人：日本科学エンジニアリング株式会社
特開平4-162215

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