レジストベーキング装置及びベーキング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-302330
公開番号（公開出願番号）：特開2001-126973
出願日： 1999年10月25日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】基板全体を均一に加熱できないため、レジスト膜厚が変化し、素子パターンの精度にばらつきが発生する。【解決手段】ベーキング装置を、変形可能な基板載置部2を有し、内部に空間部3を有するベーキングプレート1と、このベーキングプレート1に接続され空間部3に温度調整液7を循環させるための温度調整器4とから構成する。

請求項（抜粋）：

レジスト膜が形成された基板を載置する変形可能な基板載置部を有し、内部に空間部を有するベーキングプレートと、このベーキングプレートに接続され前記空間部内に温度調整液を循環させるための温度調整器とを含むことを特徴とするレジストベーキング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G02F 1/13 101

FI (2件)：

G02F 1/13 101 , H01L 21/30 567

Fターム (7件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088HA04 , 2H088MA20 , 5F046KA01 , 5F046KA10

引用特許：

出願人引用 (4件)

基板加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-166231 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-056823 出願人：株式会社トプコン
特開昭57-034336

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