特許
J-GLOBAL ID：200903008403129220

ウェット処理装置

発明者：
三森 健一

三森 健一 について


出願人/特許権者：
株式会社フロンテック

株式会社フロンテック について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095568
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288490
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】【課題】 処理液の使用量を削減でき、高清浄度の処理が可能であり、処理液の回収、再生にも適した洗浄装置等のウェット処理装置を提供する。【解決手段】 本洗浄装置は、水素水を導入する導入口23aと使用後の水素水を外部へ排出する排出口24aと基板Wに向けて開口する開口部とを有し、開口部から基板W上に水素水を供給する水素水ブラシ洗浄用ノズル4と、ノズル4の開口部から一部が露出し基板Wに接触するようノズル4の内部に回転可能に収容されたブラシとを備えている。
請求項（抜粋）：
処理液を導入するための導入口と処理後の処理液を外部へ排出するための排出口と前記被処理基板に向けて開口する開口部とを有し該開口部から前記被処理基板上に処理液を供給する処理液供給ノズルと、該処理液供給ノズルの開口部から一部が露出し前記被処理基板に接触するよう前記処理液供給ノズルの内部に回転可能に収容されたブラシと、前記被処理基板の被処理面に沿って前記処理液供給ノズルを前記被処理基板に対して相対的に移動させることにより前記被処理基板の被処理面全域を処理するノズルまたは被処理基板の移動手段とを有することを特徴とするウェット処理装置。
IPC (6件)：
B08B 3/04 ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/306
FI (6件)：
B08B 3/04 A ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/12 C ,  H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 644 D ,  H01L 21/306 J
Fターム (28件)：
3B116AA02 ,  3B116AB23 ,  3B116BA02 ,  3B116BA14 ,  3B116BB23 ,  3B116BB83 ,  3B116CC01 ,  3B116CC05 ,  3B116CD11 ,  3B201AA02 ,  3B201AB24 ,  3B201BA02 ,  3B201BA14 ,  3B201BB23 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CC01 ,  3B201CC21 ,  3B201CD11 ,  5F043BB27 ,  5F043CC16 ,  5F043DD19 ,  5F043EE05 ,  5F043EE07 ,  5F043EE33 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (6件)
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