回転式基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小野由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251580
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106233
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：

【要約】【目的】浮遊ミストの発生を抑え、処理液が基板に再付着しにくくする。【構成】基板洗浄装置1は、角型基板Wを回転させながらその表面を洗浄液で洗浄する装置であり、基板保持部2と、回転軸7と、ブラシ洗浄機構3とを備えている。基板保持部2は、角型基板Wを収納するための凹部Aを上端部に有し、角型基板Wを凹部Aに収納した状態で上面全体が円形状となる。回転軸7は、基板保持部2をその中心回りに回転させる。ブラシ洗浄機構3は、基板保持部2に保持された角型基板Wに対して、洗浄液を供給する。

請求項（抜粋）：

角型基板を回転させながら、前記角型基板の表面を処理液で処理する回転式基板処理装置であって、前記角型基板を収納するための収納部を上端部に有し、前記角型基板を前記収納部に収納した状態で上面全体が円形状となる基板支持手段と、前記上面の中心の回りに前記基板支持手段を回転させる回転手段と、前記基板支持手段の前記収納部に収納された前記角型基板に対して、前記処理液を供給する供給手段と、を備えた回転式基板処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/027 , B05C 1/02 101 , B05C 5/00 101 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , H01L 21/304 341 , H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (6件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-302451 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平4-151667
特開昭56-056629

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