塗布現像処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-133304
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319845
出願日： 2000年05月02日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】酸素などの分子レベルの微細な不純物がウェハに付着することが抑制される塗布現像処理システムを提供する。【解決手段】塗布現像処理システム1の仕切板10及び60により仕切られた各エリア,すなわちカセットステーション2,処理ステーション3及びインタフェイス部4の上部に,各エリア内に不活性気体を供給する気体供給手段70,71,72をそれぞれ設ける。前記各エリアの下部には,各エリア内の雰囲気を排気するための排気管75,76,77を設ける。各気体供給装置70,71,72から酸素等の不純物や微粒子を含まない不活性気体を各エリア内に供給し,各エリア内の雰囲気を排気管75,76,77から排気することによって,各エリア内の雰囲気を清浄な状態に維持する。

請求項（抜粋）：

基板の塗布現像処理を行うシステムであって,このシステムのケーシング内に,前記システム内に基板を搬入出するためのローダ・アンローダ部と,少なくとも基板に塗布膜を形成する塗布処理装置と,前記基板の現像を行う現像処理装置と,前記基板の熱処理を行う熱処理装置と,これらの塗布処理装置,現像処理装置及び熱処理装置に対して前記基板の搬入出を行う第1の搬送装置とを有する処理部と,少なくとも前記処理部と前記基板の露光処理を行う露光処理装置との間の経路で基板の搬送を行う第2の搬送装置を有するインタフェイス部とを有し,前記インタフェイス部に不活性気体を供給する気体供給装置と,前記インタフェイス部の雰囲気を排気する排気手段とを有することを特徴とする,塗布現像処理システム。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 501 , G03F 7/20 521 , G03F 7/30 501

FI (4件)：

G03F 7/16 501 , G03F 7/20 521 , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 562

Fターム (14件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025EA04 , 2H025EA05 , 2H025FA14 , 2H096AA25 , 2H096CA12 , 2H096CA14 , 2H096GA21 , 2H096GA29 , 2H096GB00 , 5F046AA28 , 5F046CD05 , 5F046KA10

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-326509
半導体基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-143844 出願人：日本電気株式会社
リソグラフィー装置、投影露光装置およびコータデベロッパー
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-319780 出願人：株式会社ニコン

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