特許
J-GLOBAL ID：200903008507927552
薄膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 毅巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-212416
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032810
出願日： 2004年07月21日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】 大面積基板に良好な薄膜が形成可能で設置床面積の小さい薄膜形成装置を提供する。【解決手段】 反応容器11内に配置された高周波電圧印加電極12と接地電極13の間に高周波電圧を印加して放電を発生させ、原料ガスを分解、反応させて薄膜を形成するプラズマCVD装置10において、高周波電圧印加電極12を、接続部17で電気接続された第1,第2,第3の電極板12a,12b,12cで構成する。高周波電圧印加電極12への給電は、第1の電極板12aに行う。給電が行われた第1の電極板12aに高周波電力のアンバランスが生じても、それが第2,第3の電極板12b,12cへと伝播する段階でそのアンバランスは解消されていく。これにより、放電領域18のプラズマ密度分布の均一化が図られ、大面積の基板1上に良好な薄膜を形成することが可能になる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電極間に印加される電圧によって発生する放電を利用して薄膜の形成を行う薄膜形成装置において、
接地された平板状の接地電極と、
電気的に接続された複数の電極板を有し前記複数の電極板のうち前記接地電極に対向する電極板の面が前記接地電極の面と平行に配置され前記接地電極に対向する電極板と異なる電極板に給電が行われる電圧印加電極と、
前記電圧印加電極と前記接地電極との間に電圧が印加されて内部に放電領域が形成される反応容器と、
を有することを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, C23C 16/509
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA03
, 4K030KA14
, 4K030KA15
, 4K030KA46
, 5F045AA08
, 5F045AB04
, 5F045BB20
, 5F045CA13
, 5F045DP02
, 5F045DQ10
, 5F045EH04
