特許

J-GLOBAL ID：200903008523008184

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法

発明者： 武元 一樹 ,  吉田 勲 ,  宮川 貴行
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-050664
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331918
出願日： 2005年02月25日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：

【課題】 ArFエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 式(I)で示される繰り返し単位(Xは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル又は炭素数1〜4のペルフルオロアルキルを示す。Yは、記載の炭素原子とともに脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数の原子を示す。Zは、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を示す。Rは、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を示す。)と式(II)〜(V)で示される繰り返し単位からなる群から選ばれた少なくとも一つの繰り返し単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含む感放射線組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

式(I)で示される繰り返し単位

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  C08F20/10 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/10 ,  H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02R ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC49P ,  4J100BC53Q ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

• レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-014064   出願人：日本電気株式会社

審査官引用 (1件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-133816   出願人：JSR株式会社