特許

J-GLOBAL ID：200903008658166138

流体制御システム

発明者： 加藤 宗 ,  三宅 亮 ,  大曽根 靖夫 ,  西嶋 規世
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-235940
公開番号（公開出願番号）：特開2006-051459
出願日： 2004年08月13日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：

【課題】できるだけ部品点数の少ないコンパクトな構成で複雑な化学反応プロセスを自動化する。【解決手段】流体制御システムは、複数の密閉可能な容器と、該複数の容器を互いに接続する流路と、上記容器の内圧を調節する圧力調節装置と、を有し、上記容器の内圧の差を利用して上記容器間にて溶液を移送させる。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

複数の密閉可能な容器と、該複数の容器を互いに接続する流路と、上記容器の内圧を調節する圧力調節装置と、を有し、上記容器の内圧の差を利用して上記容器間にて溶液を移送させることを特徴とする流体制御システム。

IPC (4件)：

B01J 4/00 ,  B01F 3/08 ,  B01J 19/00 ,  G01N 37/00

FI (4件)：

B01J4/00 103 ,  B01F3/08 Z ,  B01J19/00 321 ,  G01N37/00 101

Fターム (16件)：

4G035AB37 ,  4G068AA01 ,  4G068AB11 ,  4G068AC17 ,  4G068AD36 ,  4G068AF40 ,  4G075AA13 ,  4G075AA39 ,  4G075AA61 ,  4G075BA10 ,  4G075CA05 ,  4G075DA02 ,  4G075EB50 ,  4G075EE04 ,  4G075EE12 ,  4G075FC20

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開昭61-125429
  
• 特開昭61-118127
  
• 処理液供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-099186   出願人：住友精密工業株式会社
• 密閉型充填式薬剤溶解容器への薬剤供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-342987   出願人：鈴鹿エンジ有限会社
• 液体検知方法および器具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-318793   出願人：テラメックス株式会社, 日本メジフィジックス株式会社
• 特許第6296020号
  
• 薬液供給システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-128893   出願人：株式会社藤森技術研究所, 株式会社エヌシーエス