特許
J-GLOBAL ID：200903008718631552
微細構造を転写するための装置と方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 武久 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-621131
公開番号（公開出願番号）：特表2003-500253
出願日： 2000年04月15日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：
【要約】本発明は、ツールから構造化対象の基材に微細構造を転写するための装置と方法に関する。本発明は、前記ツールと前記基材を相互に制御する方法で位置合わせすることを目的とする。本装置は、互いに対して反対方向に移動でき、前記ツールと前記基材との間の距離を変更できる、前記ツールと前記基材用支持台を含む。少なくとも1つの測定平面上の選択された位置を測定するため、前記支持台の間に挿入できる測定システムが設けられる。前記支持台の移動方向は、前記測定平面に対して垂直に位置合わせされる。測定システムは、測定位置において前記ツールとの固定的な空間関係を形成する。前記基材は、前記ツールに対して位置合わせされるよう、測定平面に平行に移動できる。本発明は、微細構造をもつ部品を生産するために使用できる。
請求項（抜粋）：
ツールと基材との距離が変化するような方向でツールの支持台と基材の支持台とを互いに位置調整可能にした、ツールの微細構造を構造化対象である基材へ転写するための装置において、両支持台の位置調整方向に対し垂直に指向する少なくとも1つの測定面内で選択個所を測定するため、両支持台の間に挿入可能な測定システム(8)が設けられ、測定システム(8)は、測定位置においてツール(46)に対し固定的な空間関係にあること、基材(34)をツール(46)に対し方向調整するため、基材(34)が測定面に対し平行に変位可能であることとを特徴とする装置。
Fターム (5件)：
4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PQ11
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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