特許
J-GLOBAL ID：200903033742843050
微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-130608
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323461
出願日： 1999年05月11日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：
【要約】【課題】 ナノインプリントによるパターニングのアライメント可能な微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法を提供する。【解決手段】 ナノインプリントのモールドを、光等を透過可能なモールド基板に設け、このモールド基板に位置参照用のマークを設ける。ウェハにも、モールド基板のマークに対応したマークを形成する。モールド基板でのモールドの位置決めを精度良く行うために、ナノインプリントのモールドは、モールド基板にマークを形成した後に、マーク位置を参照して形成する。モールド基板にモールドとマークを形成することによって、ウェハ上側から、光等によってモールド基板を透過してモールド基板のマークとウェハのマークを同時に観察・参照することでウェハとモールドとの相対位置をアライメントする。
請求項（抜粋）：
ウェハに一括パターン形成する微細パターン形成装置において、パターン形成手段が光、電子、イオン、またはX線を透過させるパターン形成基板に設けられることを特徴とする微細パターン形成装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/027
H01L 21/302 J
, H01L 21/30 502 M
, H01L 21/30 502 Z
5F004AA16
, 5F004EA00
, 5F004EA33
, 5F046AA28
, 5F046ED01
, 5F046FA05
, 5F046FA08
, 5F046FA14
