電子ビーム描画方法及び描画装置、並びにこれを用いた半導体製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：小川勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-102789
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297732
出願日： 2002年04月04日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】マルチビーム描画方式において、各ビームの位置補正を偏向器アレイと膨大かつ高精度な駆動回路を用いずに高精度かつ高速な電子ビーム描画技術を提供する。【解決手段】複数の電子ビームの各々を独立にオンオフし走査して試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンと描画すべき前記所望のパターンとのずれを、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンのパターンデータの位置をシフトすることにより制御する。

請求項（抜粋）：

複数の電子ビームの各々を独立にオンオフし走査して試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンと前記所望のパターンとのずれを、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンのパターンデータの位置をシフトすることにより制御してなることを特徴とする電子ビーム描画方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 D , H01L 21/30 541 W

Fターム (15件)：

5F056AA07 , 5F056AA33 , 5F056BB03 , 5F056CA02 , 5F056CA04 , 5F056CA26 , 5F056CB05 , 5F056CB13 , 5F056CB14 , 5F056CB35 , 5F056CC02 , 5F056CC09 , 5F056CD03 , 5F056CD04 , 5F056CD06

引用特許：

出願人引用 (4件)

荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-075894 出願人：キヤノン株式会社
特開昭59-107512
特開平1-200622

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審査官引用 (7件)

荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-075894 出願人：キヤノン株式会社
特開昭59-107512
特開平1-200622

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