マイクロリソグラフィのための照射光源と照射方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡部正夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-065621
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283133
出願日： 1995年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】ホトマイクロリソグラフィにおいて、有害な材料を使用せず、マスクの均一な照射を信頼性をもって行うことのできる照射装置及び照射方法を提供する。【構成】光源12は、多数のセグメントに分けられるビーム14を放出する固体レーザ26を備えている。各々のセグメントは、異なる量だけ周波数シフトされ、そのようなセグメントは、周波数領域において実質的にオーバーラップしない。各々のセグメントは、ハエの目型のアレー32の短焦点距離レンズ要素54を通過してマスク平面18上に分散され、マスク16を均一に照射する。ハエの目型のアレー32のレンズ要素54は、分散されたビームセグメントの幅に比較して小さな領域の中に設けられており、各々のビームセグメントは、マスクの共通部分全体を照射することに貢献する。

請求項（抜粋）：

ホトマイクロリソグラフィ・ステッパにおいてマスクを照射するための照射装置において、ビーム通路に沿ってビームを放出するレーザと、前記ビーム通路内に位置する周波数シフト型のセルから成るアレーであって、各々のセルは、前記ビームの対応する別個のビームセグメントの部分を遮って、周波数シフトさせ、かつ前記ビーム通路に沿って透過させるように作動可能であり、前記セルの少なくとも幾つかは異なるシフト量で周波数シフトすることができるようになされ、前記ビーム通路内に配置され、前記マスクを照射するためにビームセグメントをオーバーラップさせるように前記ビームセグメントを再結合するビームセグメント・インテグレータとを備えることを特徴とする照射装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 515 D

引用特許：

出願人引用 (5件)

紫外パルスレーザによる投影式露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-257457 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-001109
半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-308743 出願人：ソニー株式会社

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