特許
J-GLOBAL ID：200903008748794537
プラズマ発生装置、プラズマ手術装置、及びプラズマ手術装置の使用法。
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-519873
公開番号（公開出願番号）：特表2009-500799
出願日： 2006年07月07日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：
本発明は、アノードと、カソードと、少なくとも1つの中間電極とを備えるプラズマ発生装置に関し、中間電極は、アノードとカソードとの間に少なくとも部分的に配置され、中間電極及びアノードは、アノード内に開口を有するプラズマ・チャネルの少なくとも一部を形成する。さらに、プラズマ発生装置は、カソードからアノードの方向に、少なくとも1つの中間電極を越えて位置決めされる少なくとも1つの出口開口を設けられた少なくとも1つの冷媒チャネルを備え、出口開口における冷媒チャネルのチャネル方向は、プラズマ・チャネルの開口におけるプラズマ・チャネルのチャネル方向の方向成分と同じ方向成分を有する。本発明はまた、プラズマ手術装置及びこうしたプラズマ手術装置の使用法に関する。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生装置であって、
アノードと、
カソードと、
前記カソードと前記アノードとの間で長手方向に延在し、前記カソードから最も遠い端に出口開口を有するプラズマ・チャネルと、
前記カソードと前記アノードとの間に少なくとも部分的に配置された少なくとも1つの中間電極とを備え、前記少なくとも1つの中間電極及び前記アノードが、前記プラズマ・チャネルの少なくとも一部を形成し、前記少なくとも1つの中間電極が、互いからまた前記アノードから絶縁され、
少なくとも1つの冷媒チャネルであって、装置内で長手方向に延在し、かつ、前記アノードに最も近い前記端に少なくとも1つの開口を有し、それにより、冷媒チャネルを通して流れる冷媒液体が、少なくとも1つの冷媒チャネルが隣接する装置の一部分を冷却する、少なくとも1つの冷媒チャネルを備え、
前記冷媒チャネルの前記少なくとも1つの出口開口が、前記カソードから最も遠い端の前記プラズマ・チャネルの前記出口開口に非常に接近して配置され、それにより、前記冷媒チャネルの前記少なくとも1つの出口開口から流れる前記冷媒液体が、プラズマ作用のエリアを制限するプラズマ発生装置。
IPC (4件)：
H05H 1/28
, A61B 18/00
, H05H 1/32
, H05H 1/34
H05H1/28
, A61B17/36
, H05H1/32
, H05H1/34
