転がり要素の耐食構造

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江原省吾 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-326548
公開番号（公開出願番号）：特開平7-180028
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月18日
要約：

【要約】【目的】転がり要素の耐食性を向上させる。【構成】耐食被膜2bは、外輪2の外径面を覆うクロムのメッキ層2b1と、メッキ層2b1の表面を覆うイオンプレーティング層2b2とからなる。メッキ層2b1は、外輪2の外径面にクロムを電解メッキ等により5〜10μm程度コーティング処理したものである。イオンプレーティング層2b2は、メッキ層2b1の表面にクロムをイオンプレーティングにより0.2μm程度コーティング処理したものである。イオンプレーティング層2b2がメッキ層2b1のピンホールPの奥部にまで入り込んで母材表面を覆いこれを保護している。

請求項（抜粋）：

転がり要素の転がり摩擦を生ずる表面にクロム又はクロムを主成分とする金属材料からなる耐食被膜を形成したものであって、この耐食被膜が、母材表面を覆うメッキ層と、このメッキ層の上層に形成されたイオンプレーティング層とを有することを特徴とする転がり要素の耐食構造。

IPC (2件)：

C23C 14/06 , C23C 14/14

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-050980
特開平4-045287
半導体製造設備用転がり軸受
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-136084 出願人：エヌティエヌ株式会社

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審査官引用 (7件)

特開平2-050980
特開平2-050980
特開平4-045287

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