特許
J-GLOBAL ID:200903008879975278
半導体記憶装置、及び半導体装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-075401
公開番号(公開出願番号):特開2009-267384
出願日: 2009年03月26日
公開日(公表日): 2009年11月12日
要約:
【課題】トランジスタを絶縁破壊させることなく、記憶素子において確実にデータの書き込みを行うことを課題とする。【解決手段】半導体記憶装置は、電位制御回路100と、ゲート端子、ソース端子、及びドレイン端子を有するトランジスタ101と、電位供給端子102と、第1端子及び第2端子を有する記憶素子103と、を有する。データ書き込み時において、記憶素子103の第2端子には負電位が与えられる。また、トランジスタ101のゲート端子とソース端子の電位差が、トランジスタ101の閾値電圧以上であり、且つトランジスタ101の絶縁耐圧以下である。また、記憶素子103の第1端子と第2端子の電位差が、トランジスタ101の絶縁耐圧より高く、且つ記憶素子103の書き込みに必要な電圧以上である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
電位制御回路と、
電位供給端子と、
ゲート端子、ソース端子、及びドレイン端子を有し、前記ゲート端子に前記電位制御回路から第1の電位が与えられ、且つ前記ソース端子及び前記ドレイン端子の一方に前記電位供給端子から第2の電位が与えられるP型トランジスタと、
第1端子及び第2端子を有し、前記第1端子に前記P型トランジスタの前記ソース端子及び前記ドレイン端子の他方が電気的に接続し、且つ前記P型トランジスタを介して前記電位供給端子から前記第2の電位が与えられ、前記第2端子に前記電位制御回路から負電位である第3の電位が与えられ、前記第1端子及び前記第2端子間の抵抗値が変化することによりデータが書き込まれた状態となる記憶素子と、を有し、
前記記憶素子にデータを書き込むために必要な電圧は、前記P型トランジスタの絶縁耐圧より高く、
データ書き込み時における前記第1の電位と前記第2の電位の電位差は、前記P型トランジスタの閾値電圧の絶対値より大きく、且つ前記P型トランジスタの絶縁耐圧以下であり、
前記データ書き込み時における前記第2の電位と前記第3の電位の電位差は、前記P型トランジスタの絶縁耐圧より高く、且つ前記記憶素子にデータを書き込むために必要な電圧以上である半導体記憶装置。
IPC (6件):
H01L 27/10
, H01L 27/105
, H01L 45/00
, H01L 49/00
, H01L 51/05
, G11C 13/00
FI (7件):
H01L27/10 451
, H01L27/10 448
, H01L45/00 A
, H01L45/00 Z
, H01L49/00 Z
, H01L29/28 100B
, G11C13/00 A
Fターム (15件):
5F083FZ07
, 5F083FZ10
, 5F083GA09
, 5F083HA02
, 5F083HA06
, 5F083HA10
, 5F083JA36
, 5F083JA37
, 5F083JA38
, 5F083JA39
, 5F083JA42
, 5F083JA58
, 5F083PR23
, 5F083ZA13
, 5F083ZA14
引用特許:
審査官引用 (3件)
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不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-057111
出願人:三洋電機株式会社
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-001979
出願人:株式会社ルネサステクノロジ
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記憶素子及び半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-108004
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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