狭い粒径分布を有するシリカ、その製造方法、その使用および該シリカを含有するエラストマー混合物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-033013
公開番号（公開出願番号）：特開2002-316815
出願日： 2002年02月08日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】狭い粒径分布を有するシリカ、その製造方法、その使用および該シリカを含有するエラストマー混合物を提供する。【解決手段】パルス燃焼乾燥機中でシリカ懸濁液を乾燥させることにより、d<SB>5</SB> <10μmd<SB>50</SB> <20μmd<SB>95</SB> <40μmを有する狭い粒径分布を有するシリカを製造する。

請求項（抜粋）：

以下の物性: BET表面積(DIN66131) 100〜700m<SP>2</SP>/g、 DBP吸収量(DIN53601、乾燥物質に対する) 100〜500g/100g、タップ密度(ISO787-11) 100〜250g/l、 ALPINE-ふるい残留物>63μ(ISO8130-1) <5%、粒径 d<SB>95</SB> <40μm、(体積基準分布) d<SB>50</SB> <20μm、 d<SB>5</SB> <10μmを有することを特徴とするシリカ。

IPC (6件)：

C01B 33/12 , C08K 3/36 , C08L101/00 , C09C 1/28 , C09D 5/28 , C09D201/00

FI (6件)：

C01B 33/12 Z , C08K 3/36 , C08L101/00 , C09C 1/28 , C09D 5/28 , C09D201/00

Fターム (33件)：

4G072AA25 , 4G072AA41 , 4G072BB05 , 4G072DD03 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072MM01 , 4G072QQ07 , 4G072QQ09 , 4G072RR07 , 4G072RR11 , 4G072TT01 , 4G072TT04 , 4G072TT06 , 4G072TT12 , 4J002AA001 , 4J002DJ016 , 4J002FD016 , 4J037AA18 , 4J037DD05 , 4J037DD07 , 4J037EE03 , 4J037EE25 , 4J037EE28 , 4J037EE35 , 4J037EE43 , 4J037FF15 , 4J038EA011 , 4J038HA446 , 4J038KA08 , 4J038KA15 , 4J038NA01 , 4J038NA11

引用特許：

審査官引用 (6件)

シラン化ケイ酸、その製法及びそれを含有する低い降伏価を有する低粘度ポリマー系
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-106937 出願人：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
沈降珪酸、被覆された状態での該化合物の製造法、および該化合物の使用
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-350127 出願人：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
易分散性沈降ケイ酸
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-260276 出願人：デグッサアクチェンゲゼルシャフト

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引用文献：

審査官引用 (1件)

Demystifying pulse combustion spray drying & spray dryer compatibility questions, 20010202

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