特許

J-GLOBAL ID：200903009085850370

薄膜塗布装置および方法、並びに液晶表示素子の製造法

発明者： 谷岡 聡 ,  村田 鎮男 ,  河野 誠 ,  平野 雅之
出願人/特許権者： チッソ株式会社 ,  株式会社飯沼ゲージ製作所 ,  浜松ホトニクス株式会社
代理人 (1件)： 川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-226495
公開番号（公開出願番号）：特開平11-064812
出願日： 1997年08月22日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 画素欠陥の少ない液晶素子を高い歩留まりで得る製造法。【解決手段】 一対の透明基板上に電極と半導体素子を設ける工程、フォトレジスト塗布、露光、エッチング、レジスト剥離、電極及び半導体素子検査、絶縁膜塗布、配向膜塗布、配向膜ラビング、スペーサー散布、シール剤塗布、セル組立、液晶封入、偏向板貼付、ドライバーICの接続等の諸工程を有する液晶素子の製造法において、配向膜をラビングする以前の少なくとも一つの工程において、該基板に軟X線を照射することを特徴とする液晶素子の製造法。

請求項（抜粋）：

装置内で基板を移動させ得る基板の移送部と、該基板上に薄膜を塗布するための塗布部と、前記基板の移送部または塗布部において基板に対して軟X線を出射する軟X線照射部とを有することを特徴とする薄膜塗布装置。

IPC (7件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 ,  G09F 9/00 342 ,  G21K 5/10 ,  C09K 19/06

FI (7件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1337 ,  G09F 9/00 342 C ,  G21K 5/10 S ,  C09K 19/06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板の洗浄乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-183579   出願人：株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
• 液晶配向処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-091783   出願人：株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社