特許
J-GLOBAL ID:200903009116128929

薄膜キャパシタ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-298679
公開番号(公開出願番号):特開平8-162617
出願日: 1994年12月01日
公開日(公表日): 1996年06月21日
要約:
【要約】【目的】 RuO2 を下部電極に用いた場合においても誘電率が高くリーク電流を低くすること。【構成】 下部電極であるRuO2 上に酸素が欠乏した酸化物誘電体層を設け、この上に酸化物誘電体薄膜を積層する。【効果】 RuO2 を下部電極に用いた場合においても誘電率が高くリーク電流の低い薄膜キャパシタが得れる。
請求項(抜粋):
下部電極上に設けた酸素が欠乏した酸化物誘電体層と、該酸化物誘電体層上に積層した酸化物誘電体薄膜とを含むことを特徴とする薄膜キャパシタ。
IPC (4件):
H01L 27/108 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822
FI (2件):
H01L 27/10 651 ,  H01L 27/04 C
引用特許:
審査官引用 (2件)

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