特許
J-GLOBAL ID:200903009148702724
実質的に水素の存在しない雰囲気下、コバルト含有吸着剤を用いる炭化水素原料ストリームからの硫黄化合物の除去
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
河備 健二
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-555195
公開番号(公開出願番号):特表2004-533492
出願日: 2001年12月21日
公開日(公表日): 2004年11月04日
要約:
炭化水素原料ストリーム、特にナフサ範囲で沸騰するものを、コバルトと、モリブデンおよびタングステンよりなる群から選択される一種以上の第VI族金属とが耐火性担体に担持されてなる吸着剤と接触させることによって、前記原料ストリームから硫黄化合物を除去する方法が開示される。本発明はまた、ナフサ原料ストリームを先ず選択的水素化脱硫に付し、オレフィンをあまり飽和させずに硫黄を除去する方法に関する。生成物ストリームはメルカプタンを含んで製造されるが、これが本発明のコバルト含有吸着剤を用いることによって除去される。
請求項(抜粋):
硫黄化合物含有炭化水素ストリームから硫黄化合物を除去する方法であって、
実質的に水素の存在しない雰囲気下、硫黄化合物含有炭化水素ストリームを、Coと、MoおよびWよりなる群から選択される少なくとも一種の第VI族金属とが無機耐火性担体に担持されてなる吸着剤と、150°C未満の温度を含む条件下で接触させる工程
を含むことを特徴とする硫黄化合物を除去する方法。
IPC (5件):
C10G25/00
, B01D15/00
, B01J20/08
, C10G29/04
, C10G29/16
FI (5件):
C10G25/00
, B01D15/00 K
, B01J20/08 B
, C10G29/04
, C10G29/16
Fターム (27件):
4D017AA04
, 4D017BA04
, 4D017CA06
, 4D017CB01
, 4D017DA01
, 4D017DB03
, 4D017EA01
, 4D017EB02
, 4G066AA02B
, 4G066AA04C
, 4G066AA12C
, 4G066AA16C
, 4G066AA18C
, 4G066AA19C
, 4G066AA20C
, 4G066AA21C
, 4G066AA22C
, 4G066AA23C
, 4G066AA25B
, 4G066AA27B
, 4G066AA63C
, 4G066AA70C
, 4G066CA22
, 4G066DA09
, 4G066FA18
, 4G066FA27
, 4G066FA37
引用特許: