特許
J-GLOBAL ID：200903009240677485

流体給排装置及びそれを有する露光装置

発明者：
長谷川 敬恭

長谷川 敬恭 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-240362
公開番号（公開出願番号）：特開2006-060016
出願日： 2004年08月20日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：
【課題】 液体などの充填性を高め、転写精度の劣化を防止する流体給排装置及びそれを有する露光装置を提供する。【解決手段】 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系と、前記被露光体を載置するステージと、を備える露光装置において、前記投影光学系の最も前記ステージ側の光学素子の周辺に配置され、その下面が前記ステージの表面と実質的に平行である部材と、前記部材と前記ステージとで挟まれた空間内に第1の流体を供給する第1の供給部と、前記第1の供給部の外側に設けられ、前記空間内から前記第1の流体を回収する第1の回収部とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系と、前記被露光体を載置するステージと、を備える露光装置において、 前記投影光学系の最も前記ステージ側の光学素子の周辺に配置され、その下面が前記ステージの表面と実質的に平行である部材と、 前記部材と前記ステージとで挟まれた空間内に第1の流体を供給する第1の供給部と、 前記第1の供給部の外側に設けられ、前記空間内から前記第1の流体を回収する第1の回収部とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 515D
Fターム (4件)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046DA07 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
  • リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-381339   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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