特許
J-GLOBAL ID：200903009251002781
膜の形成方法およびそれを用いた電子放出素子の製造方法およびそれを用いた画像形成装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-029930
公開番号（公開出願番号）：特開2000-251665
出願日： 1999年02月08日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 膜を精度よく、歩留りよく、効率良く形成する。【解決手段】 基板の状態を検出し、前記検出した結果に基づいて前記膜の材料を付与する位置に関する位置情報を、前記膜をそれぞれ形成する複数の位置について算出した後、前記複数の位置それぞれについての前記位置情報に基づいて、複数の位置に前記膜の材料を付与する。
請求項（抜粋）：
基板上に膜を局所的に形成する方法であって、前記基板の状態を検出するステップと、前記検出した結果に基づいて前記膜の材料を付与する位置に関する位置情報を、前記膜をそれぞれ形成する複数の位置について算出するステップと、前記複数の位置についての位置情報を算出した後、前記複数の位置それぞれについての前記位置情報に基づいて、複数の位置に前記膜の材料を付与するステップと、を有することを特徴とする膜の形成方法。
IPC (4件)：
H01J 9/02
, G09F 9/313
, H05K 3/12 630
, B41J 2/01
H01J 9/02 E
, G09F 9/313 A
, H05K 3/12 630 A
, B41J 3/04 101 Z
2C056FB01
, 2C056FB08
, 5C094AA05
, 5C094AA42
, 5C094AA43
, 5C094BA31
, 5C094CA19
, 5C094EA04
, 5C094EA07
, 5C094GB01
, 5E343BB61
, 5E343BB71
, 5E343BB80
, 5E343DD80
, 5E343ER33
, 5E343GG08
