特許

J-GLOBAL ID：200903009275294562

クリーニング方法

発明者： 多田 国弘 ,  吉川 秀樹
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-140874
公開番号（公開出願番号）：特開平10-317142
出願日： 1997年05月15日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】 チタン塩化物よりなる反応副生成物を、プラズマを用いることなく、しかも、効率的に除去することができるクリーニング方法を提供する。【解決手段】 基板Wに対して成膜を行なう処理容器4内に付着したチタン塩化物Mを除去するクリーニング方法において、前記処理容器内を130°C以上に加熱した状態でクリーニングガスとしてClF系ガスを用いて前記チタン塩化物を除去する。これにより、チタン塩化物を迅速に、且つ効率的に除去する。

請求項（抜粋）：

基板に対して成膜を行なう処理容器内に付着したチタン塩化物を除去するクリーニング方法において、前記処理容器内を130°C以上に加熱した状態でクリーニングガスとしてClF系ガスを用いて前記チタン塩化物を除去するようにしたことを特徴とするクリーニング方法。

IPC (6件)：

C23C 16/02 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285

FI (6件)：

C23C 16/02 ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/302 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

• CVD装置のクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-089328   出願人：富士通株式会社
• 成膜室の洗浄化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-232866   出願人：株式会社東芝
• 処理装置及びドライクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-023490   出願人：東京エレクトロン株式会社