特許
J-GLOBAL ID：200903007527322081

処理装置及びドライクリーニング方法

発明者：
波多野 達夫

波多野 達夫 について

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村上 誠志

村上 誠志 について

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多田 國弘

多田 國弘 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-023490
公開番号（公開出願番号）：特開平8-115886
出願日： 1995年01月17日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：
【要約】【目的】 TiやTiNに最適なドライクリーニング法を提案する。【構成】 本発明によれば、TiやTiNのような金属物質又はその化合物に対するクリーニングガスとして、少なくとも三塩化窒素を含むガスを用いるので、クリーニング時には、反応生成物として塩化物が生成する。かかる塩化物は、TiやTiNをフッ素系のクリーニングガスにより処理した場合の反応生成物であるフッ化物よりも蒸気圧が高く、容易に気相化するので、処理室内に堆積することなく除去可能である。また、クリーニングガスとして、フッ素系のガスを使用した場合には、後処理として、IPAを添加することにより、蒸気圧の低いフッ化物を蒸気圧の高いアルコキシドへ転換することにより、容易に気相化させ、処理室外に排気することが可能である。
請求項（抜粋）：
処理室内に収容された被処理体に対して金属又はその化合物を成膜させる処理装置において、少なくとも三塩化窒素(NCl3)を含むクリーニングガスを前記処理室内に導入するためのガス導入手段を設けたことを特徴とする、処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341
引用特許：
審査官引用 (4件)
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