特許

J-GLOBAL ID：200903009396396710

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 丹 史郎 ,  藤森 亨 ,  青合 利明 ,  北田 一行
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-288497
公開番号（公開出願番号）：特開平10-133376
出願日： 1996年10月30日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 高解像力を有し、かつパターンの裾にスカムを発生させることのない、良好なレジストパターンを形成する優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 (a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(c)溶剤とを含有するポジ型フォトレジスト組成物において、前記(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂の固形分中の、蛍光X線測定による、総塩素濃度が50ppm以下であることを満足することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(c)溶剤とを含有するポジ型フォトレジスト組成物において、前記(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂の固形分中の、蛍光X線測定による、総塩素濃度が50ppm以下であることを満足することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高純度感光性樹脂組成物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-205257   出願人：三菱化学株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-352621   出願人：ジェイエスアール株式会社