特許
J-GLOBAL ID:200903009452398950
反応器中の汚染物質を除去するための方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
倉内 基弘
, 風間 弘志
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-523399
公開番号(公開出願番号):特表2004-507428
出願日: 2001年08月22日
公開日(公表日): 2004年03月11日
要約:
本発明は、間欠的な又は連続的な手段によって当該システムにおいて供給材料として使用される固体反応物から汚染物質を除去することにより、反応器の操作を維持するための方法及び装置を提供する。
請求項(抜粋):
反応容器に収容され、表面を有する液相から成る液体反応混合物であって水中に溶解された尿素と、尿素加水分解反応過程間に形成及び/又は蓄積された可溶性及び/又は不溶解性汚染物質とを含む当該反応混合物中に存在する当該汚染物質の量を制御する方法であって、
(a)前記液相及び反応容器から可溶性及び/又は不溶解性汚染物質を含む反応混合物の一部を抜き取る工程と、
(b)反応混合物の抜き取られた部分から成る残部から少なくとも一の汚染物質を分離し、かつ、抜き取られた反応混合物から成る残部の少なくとも一部を反応容器中の液相へ戻す工程とを含む汚染物質量制御方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (4件):
4G068DA01
, 4G068DB08
, 4G068DB17
, 4G068DB26
引用特許: