特許
J-GLOBAL ID：200903009458444873

被処理体の液処理装置及び液処理方法

発明者：
寺田 和雄

寺田 和雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-328421
公開番号（公開出願番号）：特開2000-153209
出願日： 1998年11月18日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：
【要約】【課題】 液振り切り時に、飛散したミストが基板に再付着することを有効に防止できる液処理装置を提供する。【解決手段】 ケース55と、このケース55内に設けられ洗浄処理された基板51を回転させて液振切り乾燥を行なうスピンチャック機構50と、ケース55の側面に設けられ液振り切り乾燥時にケース側面からの気液排出を行なう側面排出孔73及び流路71と、液振り切り乾燥時にダウンフローの導入を停止するFFU(フィルタファンユニット)78とを有する。
請求項（抜粋）：
被処理体に流体を供給する手段と、被処理体を収納するケースと、このケース内に配置され、被処理体を保持して回転させるスピンチャックと、前記ケースの側面に設けられ、ケースの側面からケース内の気液を排出する側面排出系統を有することを特徴とする液処理装置。
IPC (8件)：
B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/04 ,  B08B 7/00 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 651 ,  G02F 1/13 101
FI (8件)：
B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/04 Z ,  B08B 7/00 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 651 A ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/30 569 C
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 特開昭61-176120
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-332751   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭62-225268
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