特許

J-GLOBAL ID：200903009477636961

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： 岡本 伊雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-359170
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164316
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】基板乾燥に要する時間を短縮することで、基板の生産効率を向上させることが可能な基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 ウエハ回転部10によってウエハWが回転させられ、上ノズル64および下ノズル14より洗浄液としてのふっ酸がウエハWの両面Wa,Wbに供給されて、ふっ酸によるウエハWの洗浄が行われる(洗浄工程)。次に、上ノズル64および下ノズル14よりリンス液としてのHFEのウエハWの両面Wa,Wbに供給されて、ウエハW表面のふっ酸が洗い流される(リンス工程)。最後に、上貫通孔63および下貫通孔13からガス加熱機構52で加熱された窒素ガスがウエハWの両面Wa,Wbに供給されると同時に、ウエハ回転部10によってウエハWがさらに高速回転され、ウエハW表面のリンス液が振り切り乾燥させられる(乾燥工程)。

請求項（抜粋）：

回転している基板に酸またはアルカリの薬液を含む洗浄液を供給して、基板を洗浄する洗浄工程と、この洗浄工程の後、回転している基板に有機溶剤を含むリンス液を供給して、基板表面の上記洗浄液を洗い流すリンス工程と、このリンス工程の後、基板に対する上記リンス液の供給が停止している状態で基板を回転させて、基板表面の上記リンス液を振り切り乾燥させる乾燥工程と、を備えることを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (7件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (8件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

Fターム (19件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090HC18 ,  2H090JB02 ,  2H090JB03 ,  2H090JB04 ,  2H090JC19 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB24 ,  3B201BB96 ,  3B201CA01 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-148606   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• パーフルオロプロピルメチルエーテルを含む共沸及び共沸様組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-102041   出願人：工業技術院長, 財団法人地球環境産業技術研究機構
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-244506   出願人：株式会社芝浦製作所
• ワークの処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-213385   出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社