特許
J-GLOBAL ID：200903009491845778
露光用マスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-060393
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244192
出願日： 2000年03月01日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ステンシルマスクにおける、ドーナッツ問題及びリーフ問題を解消するとともに、アスペクト比問題、及びパターン間接続問題を解消する。【解決手段】 マスクパターンにドーナッツ問題、リーフ問題、アスペクト比問題が生じているか否かを判定し、問題が生じているときにマスクパターンを2つのパターンに分割して2枚のマスクに振り分ける少なくとも一方の問題が生じているときに一方のマスクのパターンの一部を他方のマスクに振り分ける。ドーナッツ問題およびリーフ問題が生じていないときに、各マスクについてアスペクト比問題が生じているか否かを判定し、アスペクト比問題が生じているときに一方のマスクのパターンの一部を他方のマスクに振り分ける。アスペクト比問題が生じていないときパターンの接続部分に接続不良部分が生じるか否かを判定し、接続不良部分が生じているときにパターンの接続部分に補助パターンを形成する。
請求項（抜粋）：
複数のマスクで構成され、各マスクに設けられたマスクパターンをそれぞれ同一被露光基板に露光することで所望のマスクパターンを露光するように構成した露光用マスクであって、前記各マスクに設けられたマスクパターンは、前記所要のマスクパターンに存在するドーナッツ状のパターン、リーフ状のパターン、アスペクト比が大きなパターンをそれぞれ分割したパターンで構成されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/16 B
, H01L 21/30 541 S
2H095BA08
, 2H095BB02
, 2H095BB31
, 2H095BB36
, 5F056AA22
, 5F056FA05
