特許
J-GLOBAL ID:200903009524232980

エステル基又はアセチル基を含むノルボルネン系付加重合体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 鈴木 崇生 ,  梶崎 弘一 ,  尾崎 雄三 ,  谷口 俊彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-521251
公開番号(公開出願番号):特表2005-521785
出願日: 2003年07月07日
公開日(公表日): 2005年07月21日
要約:
本発明は、環状オレフィン重合体の付加重合による製造方法に係り、特に、溶媒中にエステル基又はアセチル基を含むノルボルネン系モノマーを、i)10族の遷移金属化合物;ii)コーン角度が少なくとも160 ゚である中性の15族電子供与リガンドを含む化合物;及びiii)前記i)の遷移金属に弱く配位することができる陰イオンを提供する塩;を含む触媒システムの触媒成分と接触させて付加重合する段階を含む、ノルボルネン系付加重合体の製造方法を提供する。本発明によるエステル基やアセチル基のような極性基が含まれたノルボルネン系化合物の付加重合体は、透明であり、付着性がよく、誘電定数が低く、金属に接着する際に副産物が生成されない。そのため、光学フィルム、位相差フィルム、偏光子の保護フィルム、POF(プラスチック光学繊維)、PCB(印刷回路基板)、又は絶縁性電子材料などとして用いることができる。
請求項(抜粋):
エステル基又はアセチル基の極性機能基を含むノルボルネン系付加重合体の製造用触媒システムであって、 a)10族の遷移金属化合物; b)コーン角度が少なくとも160 ゚である中性の15族電子供与リガンドを含む化合物;及び c)前記a)の遷移金属化合物に弱く配位することができる陰イオンを提供する塩;を含む、触媒システム。
IPC (2件):
C08F4/70 ,  C08F32/00
FI (2件):
C08F4/70 ,  C08F32/00
Fターム (22件):
4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA10Q ,  4J100BA20Q ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA08 ,  4J100JA32 ,  4J100JA43 ,  4J128AA01 ,  4J128AB00 ,  4J128AC45 ,  4J128AC48 ,  4J128BA02B ,  4J128BB00B ,  4J128BC12B ,  4J128BC28B ,  4J128EA01 ,  4J128EB18 ,  4J128EC01 ,  4J128EC02 ,  4J128GA01
引用特許:
出願人引用 (13件)
  • 米国特許第5011730号明細書
  • Risse,et al.,Macromol.Chem.1992,Vol.193,2915-2927
  • Sen,et al.,Organometallics 2001,Vol,20,2802-2812
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審査官引用 (3件)

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