特許
J-GLOBAL ID:200903009620239022
誘導加熱方法および装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
村上 友一
, 大久保 操
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-095914
公開番号(公開出願番号):特開2006-278150
出願日: 2005年03月29日
公開日(公表日): 2006年10月12日
要約:
【課題】 誘導加熱装置によって被加熱物を加熱する場合に、前記被加熱物全体を均一に効率良く加熱することができる誘導加熱方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明に係る誘導加熱方法は、被加熱物を誘導加熱する複数の誘導加熱コイルを近接配置して、前記誘導加熱コイルを異なる周波数ごとに群単位で区分けし、区分けした各々の前記群単位で加熱コイルの電流・周波数を同期させるとともに個別に各誘導加熱コイルの電力調整することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被加熱物を誘導加熱する複数の誘導加熱コイルを近接配置して、
前記誘導加熱コイルを異なる周波数ごとに群単位で区分けし、
区分けした各々の前記群単位内で加熱コイルの電流・周波数を同期させるとともに個別に各誘導加熱コイルの電力調整することを特徴とする誘導加熱方法。
IPC (5件):
H05B 6/44
, H01L 21/324
, H05B 6/04
, H05B 6/06
, H05B 6/36
FI (6件):
H05B6/44
, H01L21/324 J
, H05B6/04 301
, H05B6/04 321
, H05B6/06 301
, H05B6/36 D
Fターム (4件):
3K059AA02
, 3K059AA08
, 3K059CD14
, 3K059CD52
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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誘導加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-180314
出願人:島田理化工業株式会社
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-200505
出願人:三井造船株式会社
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特開平3-203187
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