特許
J-GLOBAL ID：200903009655630263
交流放電プラズマCVD成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北條 和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-243737
公開番号（公開出願番号）：特開2003-055772
出願日： 2001年08月10日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ励起の困難な有機ガス或いは含有金属化合物ガス等の成膜用ガスを原料として、プラズマの中に置いた比較的大きな面積の基材上に、平均的で均一な膜厚の皮膜を成膜する。【解決手段】 交流放電プラズマCVD成膜装置は、プラズマ励起の容易な不活性ガスとプラズマ励起の困難な成膜用ガスとを混合した雰囲気を作り、対向して設けた電極5、5の間に交流の電圧を印加してグロー放電を行わせ、プラズマ励起の困難な成膜用ガスを不活性ガスのプラズマ励起エネルギーによって分解、再結合させることによりプラズマの中に置いた基材7の表面上に成膜を行わせる。
請求項（抜粋）：
プラズマ励起の容易な不活性ガスとプラズマ励起の困難な成膜用ガスとを混合した雰囲気を作り、対向して設けた電極間に交流の電圧を印加してグロー放電を行わせ、プラズマ励起の困難な成膜用ガスを不活性ガスのプラズマ励起エネルギーによって分解、再結合させることによりプラズマの中に置いた基材の表面上に成膜を行わせることを特徴とする交流放電プラズマ成膜装置。
Fターム (5件)：
4K030AA11
, 4K030EA06
, 4K030FA03
, 4K030GA06
, 4K030KA16
