特許
J-GLOBAL ID：200903009767221757
欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-369221
公開番号（公開出願番号）：特開平11-194098
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】 モアレの影響を排除して欠陥情報を検出でき、これによって信頼性の高いマクロ検査の自動化を可能にする。【解決手段】 繰返しパターンを有する被検物上のある第1位置のパターンと第2位置のパターンとを比較することに基づいて被検物上の欠陥を検査する欠陥検査装置において、被検物表面の略全体又は分割された領域を撮像するための撮像素子を持つ撮像光学系と、被検物に対して撮像光学系を相対的に移動する移動手段と、撮像素子の画素に対する第1位置のパターンの位置関係と撮像素子の画素に対する移動後の第2位置のパターンの位置関係が略同一になるように移動手段を制御する移動制御手段と、移動前後で撮像素子により撮像された2つの画像データの比較に基づいて欠陥を検出する欠陥検出手段と、を備える。
請求項（抜粋）：
繰返しパターンを有する被検物上のある第1位置のパターンと第2位置のパターンとを比較することに基づいて前記被検物上の欠陥を検査する欠陥検査装置において、前記被検物表面の略全体又は分割された領域を撮像するための撮像素子を持つ撮像光学系と、前記被検物に対して前記撮像光学系を相対的に移動する移動手段と、前記撮像素子の画素に対する前記第1位置のパターンの位置関係と前記撮像素子の画素に対する移動後の前記第2位置のパターンの位置関係が略同一になるように前記移動手段を制御する移動制御手段と、該移動制御手段による移動前後で前記撮像素子により撮像された2つの画像データの比較に基づいて被検物上の欠陥を検出する欠陥検出手段と、を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
引用特許：
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