特許
J-GLOBAL ID：200903009858224910

メッキ前処理装置

発明者：
黒田 徹也

黒田 徹也 について

, 
加藤 英純

加藤 英純 について


出願人/特許権者：
スズキ株式会社

スズキ株式会社 について


代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009599
公開番号（公開出願番号）：特開2001-200391
出願日： 2000年01月19日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：
【要約】【課題】 陰極と被処理物の間にメッキ前処理液を均一に流すことができ、多気筒のシリンダブロックにも適用可能なメッキ前処理装置を提供する。【解決手段】 内方に中空部が形成された固定治具3の内部に筒状の陰極10を配設し、該固定治具3に筒状の被処理物17を載置して該被処理物17の内部に陰極10を配置したメッキ前処理装置であって、上記陰極10のうち下側陰極40を上側陰極41よりも細くし、上側陰極41と下側陰極40とを分割可能に構成すると共に、上記固定治具3の中空部及び陰極10を複数設け、各気筒ごとに温度計25を配設している。
請求項（抜粋）：
内方に中空部が形成された固定治具内に筒状の陰極を配設し、該固定治具に筒状の被処理物を載置して該被処理物の内部に陰極を配置したメッキ前処理装置であって、上記陰極のうち下側陰極を上側陰極よりも細くすることによって、下側陰極と固定治具とで形成される下側空隙部の容積を、上側陰極と被処理物とで形成される上側空隙部よりも大きくしたことを特徴とするメッキ前処理装置。
IPC (6件)：
C25D 7/00 ,  C25D 5/34 ,  C25F 3/02 ,  C25F 7/00 ,  F02F 1/00 ,  C25D 17/12
FI (6件)：
C25D 7/00 C ,  C25D 5/34 ,  C25F 3/02 B ,  C25F 7/00 L ,  F02F 1/00 G ,  C25D 17/12 J
Fターム (20件)：
3G024AA22 ,  3G024DA17 ,  3G024FA14 ,  3G024GA18 ,  4K024AA03 ,  4K024AA14 ,  4K024AB01 ,  4K024AB12 ,  4K024BA06 ,  4K024BB04 ,  4K024BC04 ,  4K024CA04 ,  4K024CB02 ,  4K024CB06 ,  4K024CB08 ,  4K024CB15 ,  4K024CB24 ,  4K024DA02 ,  4K024DA07 ,  4K024GA01
引用特許：
審査官引用 (6件)
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