特許
J-GLOBAL ID：200903009902649550

反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法

発明者：
野口 克之

野口 克之 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 工藤 実 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-254957
公開番号（公開出願番号）：特開2000-087852
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】【課題】ポンプのような複雑な形状、構造を持つ機器内の流路形成面に反応生成物が付着・堆積させず、且つ、製造プロセスを停止させない。【解決手段】内部で反応生成物が生成される真空室1内の蒸気を排出するための排気管7に介設されその蒸気を吸引するための真空ポンプとからなる。高温のガスを排気管に供給して反応生成物を気化させる。低圧下で気化又は昇華しやすい反応生成物は、導入されるガスにより暖められて容易に気化し、蒸気状態の反応生成物は固体化する温度まで冷却されることがなく、蒸気状態のままでガス流に乗って排気される。ポンプの複雑な構造・形状の狭い流路に内でも一様な流れを形成し、すべての流路及びその流路形成面の温度を均一に維持する。このようにガスは、排気用媒体であり、且つ、温度維持用媒体である。
請求項（抜粋）：
内部で反応生成物が生成される真空室と、前記真空室内の前記蒸気を排出するための排気管と、前記排気管に介設され前記蒸気を吸引するための真空ポンプとからなる反応生成物除去機能付き真空装置において、更に、高温のガスを前記排気管に供給するためのガス供給器とからなり、前記ガスは前記反応生成物を気化させることができる温度を有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。
IPC (4件)：
F04B 37/16 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
F04B 37/16 A ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 N
Fターム (18件)：
3H076AA21 ,  3H076AA38 ,  3H076BB13 ,  3H076CC51 ,  3H076CC95 ,  4K030EA11 ,  4K030KA28 ,  4K030KA49 ,  5F004AA15 ,  5F004BB28 ,  5F004BC02 ,  5F045BB14 ,  5F045EB06 ,  5F045EB15 ,  5F045EG01 ,  5F045EG05 ,  5F045EG07 ,  5F045EK10
引用特許：
審査官引用 (3件)

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