基板搬送装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-251912
公開番号（公開出願番号）：特開平9-074126
出願日： 1995年09月04日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：

【要約】【課題】処理ユニットと露光ユニットの各処理時間の時間差に対応しつつ、各ユニット間の基板搬送自体の高速化を図る。【解決手段】露光処理前後の各種の基板処理を行う処理ユニット2と露光処理を行う露光ユニット4との間にIFユニット3が配置されている。このIFユニット3内には第1、第2の基板搬送ロボット31、33、バッファ部32、基板搬入台34、基板搬出台35などが配設されている。バッファ部32は複数枚の基板Wを収納するための複数個の収納棚32aを有する。第1の基板搬送ロボット31は処理ユニット2内の基板受渡し台25とバッファ部32との間の基板Wの搬送を、第2の基板搬送ロボット33はバッファ部32と、基板搬入台34及び基板搬出台35との間の基板Wの搬送をそれぞれ独立・並行に行う。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィ工程のうち、露光処理前後の各種の基板処理を行なうための処理ユニットと、露光処理を行なうための露光ユニットとの間で基板の搬送(受渡し)を行なうための基板搬送装置において、複数枚の基板を一時収納しておける複数の収納部を備えた基板収納部と、前記処理ユニットとの間で基板の受渡しを行なうとともに、前記基板収納部の任意の収納部に対して基板の収納/取り出しを行なう第1の基板搬送手段と、前記露光ユニットとの間で基板の受渡しを行なうとともに、前記基板収納部の任意の収納部に対して基板の収納/取り出しを行なう第2の基板搬送手段と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , B65G 1/00 547 , B65G 49/07 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 A , B65G 1/00 547 A , B65G 49/07 C , H01L 21/30 502 J

引用特許：

審査官引用 (6件)

板状体の処理装置及び搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-108769 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
処理装置及び処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-348917 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
クラスタ型ホトリソグラフィシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-165361 出願人：セミコンダクタシステムズ,インコーポレイテッド

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