特許
J-GLOBAL ID：200903010107306677
片持ち梁及び力センサの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
河野 登夫
, 河野 英仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-039936
公開番号（公開出願番号）：特開2008-203102
出願日： 2007年02月20日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】基板の端部上に設けてあり、エッチングによる除去が可能な犠牲層と、犠牲層上にてその一端部が支持されており、曲げ変形可能な変形層と、変形層上に設けてあり、内部応力を有している応力層とを備える片持ち梁及び力センサにおいて、大掛りな装置を用いることなく、内部応力に比して靱性が高く破壊し難い応力層を形成することができ、また変形層に検出部を設けるときには、検出部と応力層との絶縁を考慮する必要のない片持ち梁及び力センサの製造方法を提供する。【解決手段】基板1、犠牲層2及び変形層3を順次積層してなる基礎部10上にピエゾ抵抗素子4を設ける工程と、基礎部10上に有機物を含む溶液を塗布し乾燥させて応力層5を設ける工程と、応力層5及び変形層3に、犠牲層2に至っておりエッチャントを流入させる流入凹部6を設ける工程と、流入凹部6に前記エッチャントを流入させて、犠牲層2の一部を除去する工程とを備えるようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の端部上に設けてあり、エッチングによる除去が可能な犠牲層と、該犠牲層上にてその一端部が支持されており、曲げ変形可能な変形層と、該変形層上に設けてあり、内部応力を有している応力層とを備え、
前記内部応力により前記変形層の他端部を前記応力層側に反らして、前記変形層及び応力層を備える片持ち梁を形成してある片持ち梁の製造方法において、
前記基板、犠牲層及び変形層を順次積層してなる基礎部上に、有機物を含む溶液を塗布し乾燥させて応力層を設ける工程と、
前記応力層及び変形層に、前記犠牲層に至っており、エッチャントを流入させる流入凹部を設ける工程と、
該流入凹部に前記エッチャントを流入させて、前記犠牲層の一部を除去する工程と
を備えることを特徴とする片持ち梁の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
4M112AA01
, 4M112BA01
, 4M112CA21
, 4M112CA23
, 4M112CA27
, 4M112DA03
, 4M112DA04
, 4M112DA09
, 4M112DA18
, 4M112EA03
, 4M112EA06
, 4M112EA11
, 4M112EA18
, 4M112FA20
