特許

J-GLOBAL ID：200903010190678157

フォトニック結晶およびその製造方法

発明者： 栗原 健二 ,  吉原 秀雄 ,  金子 隆司 ,  高橋 千春
出願人/特許権者： エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-015925
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215366
出願日： 2002年01月24日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】【課題】 多層膜を構成する各膜の形状を均一にすることで、光学特性を向上させたフォトニック結晶およびその製造方法を提供する。【解決手段】 凸部2aの先端近傍の断面形状が三角形の頂部にほぼ等しい凹凸パターンからなる周期構造を有する基板2の上に、凹凸パターンが反映された多層膜が積層されたフォトニック結晶10であり、多層膜を構成する個々の膜4、6の頂部4a、6aの断面形状は、凸部の先端近傍の断面形状とほぼ同一であるる。

請求項（抜粋）：

凸部の先端近傍の断面形状が三角形の頂部にほぼ等しい凹凸パターンからなる周期構造を有する基板の上に、前記凹凸パターンが反映された多層膜が積層され、前記多層膜を構成する個々の膜の頂部の断面形状は、前記凸部の先端近傍の断面形状とほぼ同一であることを特徴とするフォトニック結晶。

FI (2件)：

G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N

Fターム (5件)：

2H047PA01 ,  2H047PA04 ,  2H047QA01 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 偏光子とその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-257426   出願人：川上彰二郎
• 光半導体装置とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-153897   出願人：富士通株式会社
• 光導波路デバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-175193   出願人：東洋通信機株式会社
• 半導体レーザアレイ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-061969   出願人：新日本製鐵株式会社
• 液晶表示装置および電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-171738   出願人：セイコーエプソン株式会社

引用文献：

審査官引用 (5件)

• 2000年電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ大会講演論文集1, 20000907, p.375 (講演番号SC-4-11)
• Applied Physics Letters, 19990118, Vol.74, No.3, p.463-465
• 1999年電子情報通信学会総合大会講演論文集 エレクトロニクス1, 19990308, p.271 (講演番号C-3-117)
• 2000年電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ大会講演論文集1, 20000907, p.375 (講演番号SC-4-11)
• 1999年電子情報通信学会総合大会講演論文集 エレクトロニクス1, 19990308, p.271 (講演番号C-3-117)