特許
J-GLOBAL ID：200903010286647775
磁気ヘッドのための薄膜を堆積する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-135407
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059016
出願日： 2002年05月10日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】磁気読み取りヘッド用の絶縁破壊電圧が高く、ステップカバレージの大きい絶縁層を得る。【解決手段】磁気読取りヘッドを製造する構造および方法は、原子層堆積(ALD)を使用して磁気読取りヘッドギャップのためのフィルレイヤーを形成することを含む。フィルレイヤーは、絶縁体、好ましくは酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、その混合物およびその層状化構造を含む。酸化アルミニウムよりも高い熱伝導率を有する材料(例えば、酸化ベリリウムおよび窒化ホウ素)がまた、酸化アルミニウム構造内の層において使用され得る。ALD-形成されたヘッドギャップフィルレイヤーの厚みは、約5nm〜100nmの間、好ましくは約10nm〜40nmの間である。
請求項（抜粋）：
原子層堆積(ALD)を使用して磁気読取りヘッドギャップのためのフィルレイヤーを形成することを含む、磁気読取りヘッドの製造方法。
IPC (4件)：
G11B 5/39
, C23C 16/44
, H01L 43/08
, H01L 43/12
G11B 5/39
, C23C 16/44 A
, H01L 43/08 H
, H01L 43/08 Z
, H01L 43/12
