特許

J-GLOBAL ID：200903010299739890

酸化チタン薄膜形成塗布液及びその製造方法並びに酸化チタン薄膜担持基材

発明者： 井筒裕之 ,  川畑京子
出願人/特許権者： 多木化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-097757
公開番号（公開出願番号）：特開2002-293542
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 プラスチック、金属、セラミックス等各種基材に塗布したときに、高い触媒活性と実用的な膜強度を有する酸化チタン薄膜形成塗布液を提供することを目的とする。【 解決手段】 平均粒子径0.4〜1.5μm、比表面積50m2/g以上の酸化チタン粒子(A)0.2〜15重量%と、平均粒子径200nm以下、比表面積200m2/g以上の酸化チタン粒子(B)0.05〜10重量%、及びシリカ化合物(SiO2として)(C)0.1〜5重量%を含有し、且つ(B)/((A)+(B))×100=3〜25重量%、(C)/((A)+(B)+(C))=5〜30重量%である酸化チタン薄膜形成塗布液により上記課題を解決する。

請求項（抜粋）：

平均粒子径0.4〜1.5μm、比表面積50m2/g以上の酸化チタン粒子(A)0.2〜15重量%と、平均粒子径200nm以下、比表面積200m2/g以上の酸化チタン粒子(B)0.05〜10重量%、及びシリカ化合物(SiO2として)(C)0.1〜5重量%を含有し、且つ(B)/((A)+(B))×100=3〜25重量%、(C)/((A)+(B)+(C))=5〜30重量%である酸化チタン薄膜形成塗布液。

IPC (9件)：

C01G 23/047 ,  B01J 21/08 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04

FI (9件)：

C01G 23/047 ,  B01J 21/08 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 R ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D 5/16 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04

Fターム (46件)：

4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CB08 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA20A ,  4G069BA20B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA48A ,  4G069BE09A ,  4G069BE09B ,  4G069CA01 ,  4G069CA11 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069EA11 ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC02X ,  4G069EC03X ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G069FC08 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DL051 ,  4J038DL081 ,  4J038DL091 ,  4J038DL111 ,  4J038HA216 ,  4J038NA05 ,  4J038NA11 ,  4J038NA27 ,  4J038PA18 ,  4J038PB14 ,  4J038PC02 ,  4J038PC03 ,  4J038PC04 ,  4J038PC08 ,  4J038PC10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光触媒被覆化粧金属板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-098049   出願人：三菱樹脂株式会社
• 親水性コーティング剤及び表面親水性基体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-038899   出願人：株式会社タオ, 株式会社田中転写
• 光触媒被膜及び光触媒被膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-310165   出願人：東陶機器株式会社
• 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-353480   出願人：大日本印刷株式会社