特許

J-GLOBAL ID：200903010412035977

脱硝触媒を内蔵した脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および制御装置

発明者： 石黒 興和
出願人/特許権者： バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-317014
公開番号（公開出願番号）：特開平8-168639
出願日： 1994年12月20日
公開日（公表日）： 1996年07月02日
要約：

【要約】【目的】 負荷が急激に変化した場合であっても、脱硝装置出口NOx濃度を設定値近傍に維持するとともに、リークNH3 量が低減する、脱硝装置へのNH3注入量制御方法を提供する。【構成】 処理ガス流量計1からの処理ガス流量と、入口NOx濃度計2からの入口NOx濃度より入口NOx量信号21を求め、出口NOx濃度設定器3からの出口濃度設定値と入口NOx濃度から必要NH3 モル比信号13を求め、出口NOx濃度計4からの出口NOx濃度信号と、出口NOx濃度設定信号との偏差に基づきフィードバックモル比信号15を求め、処理ガス流量と入口NOx濃度と入口ガス温度計30からの入口ガス温度との変化傾向に基づきNH3 注入量補正信号31aを求め、前述した各信号21、13、15および31aとNH3 流量計6の検出値に基づきNH3 流量調整弁20を調整することにより、脱硝装置へのNH3 注入量を制御する。

請求項（抜粋）：

脱硝触媒を内蔵した排ガス脱硝装置へのアンモニア注入量を、該装置の入口ガスNOX 濃度、出口NOX 濃度およびその設定値とから求めた必要アンモニアモル比信号と、処理すべき排ガスの入口NOX 量信号とに基づき制御する方法において、入口排ガスの流量、NOX 濃度および温度の変化傾向に基づく学習型フィードフォワードファジィ制御手段により前記アンモニア注入量を補正することを特徴とする脱硝触媒を内蔵した脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法。

IPC (5件)：

B01D 53/56 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  G05B 13/02 ,  G05D 21/00

FI (3件)：

B01D 53/34 129 B ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 101 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 脱硝制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-346911   出願人：株式会社東芝
• 脱硝制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-185172   出願人：株式会社東芝