特許
J-GLOBAL ID：200903010593239498

現像廃液再生方法

発明者：
山口 典生

山口 典生 について

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五十嵐 軌雄

五十嵐 軌雄 について

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清水 巧治

清水 巧治 について


出願人/特許権者：
松下環境空調エンジニアリング株式会社

松下環境空調エンジニアリング株式会社 について


代理人 (1件)： 岡田 英彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-026493
公開番号（公開出願番号）：特開2001-212596
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：
【要約】【課題】 本発明では、高純度の再生現像液を得る現像廃液再生方法を提供することを課題とする。【解決手段】 現像処理廃液を、電気透析し、また混床イオン交換装置で、陰イオン交換によってフォトレジストを除去し、陽イオン交換によって金属イオン等を除去する。この後、液質確認装置1で液質を確認し、フォトレジスト濃度が基準以下となっているか、吸光光度計によって測定する。フォトレジスト濃度が基準を満たしている場合は、膜透過処理し、さらに活性炭処理を行った後、液質確認装置2で液質を確認する。ここで、フォトレジスト濃度が基準を満たしていれば濃度調整装置へ送られ、純水を加えるのみで現像処理操作に耐え得る精度の再生現像液が得られる。また、液質確認装置1又は2でフォトレジスト濃度が基準を超えている処理液は、経路T1又はT2によって、液質確認装置より前の工程に戻され、再度処理し直される。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト現像廃液を再生する方法であって、現像廃液を電気分解及び/又は電気透析し、イオン交換体と接触させる工程と、この工程を経た処理溶液を活性炭処理する工程とを備える現像廃液再生方法。
IPC (9件)：
C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  B01D 15/04 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/469 ,  G03F 7/32 ,  C02F 1/28
FI (13件)：
C02F 9/00 502 L ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 503 G ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E ,  B01D 15/04 ,  C02F 1/42 B ,  G03F 7/32 ,  C02F 1/28 A ,  C02F 1/46 103
Fターム (33件)：
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA25 ,  4D017AA01 ,  4D017BA03 ,  4D017BA11 ,  4D017CA03 ,  4D017CA17 ,  4D017CB01 ,  4D017CB03 ,  4D024AA04 ,  4D024AB04 ,  4D024BA02 ,  4D024DB03 ,  4D024DB05 ,  4D024DB09 ,  4D024DB19 ,  4D025AA09 ,  4D025AB05 ,  4D025AB34 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025DA03 ,  4D025DA05 ,  4D025DA06 ,  4D061DA08 ,  4D061EA02 ,  4D061EA09 ,  4D061EB13 ,  4D061FA06 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09 ,  4D061FA13
引用特許：
審査官引用 (3件)

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