感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：和気操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-042233
公開番号（公開出願番号）：特開2003-316008
出願日： 2003年02月20日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、パターン形状、膜厚均一性および保存安定性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式 [I] で表される酸解離性保護基を有するアルカリ不溶性あるいはアルカリ難溶性の樹脂、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトンおよびシクロヘキサノンを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式 [I] で表される酸解離性保護基を有するアルカリ不溶性あるいはアルカリ難溶性の樹脂、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトンおよびシクロヘキサノンを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式 [I] において、各R1は相互に独立に炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体または炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、かつR1の少なくとも1つが該脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であるか、あるいは何れか2つのR1が相互の結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数4〜20の2価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのR1が炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示す。〕

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (43件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AJ02Q , 4J100AK31Q , 4J100AK32Q , 4J100AL03Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AL62Q , 4J100AL66Q , 4J100AM02Q , 4J100AM19Q , 4J100AM21Q , 4J100AM43Q , 4J100AQ06Q , 4J100AQ08Q , 4J100AQ19Q , 4J100BA03P , 4J100BA16Q , 4J100BA40P , 4J100BC02Q , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC12P , 4J100BC53Q , 4J100BC73Q , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (6件)

特公平2-27660号公報(特許請求の範囲)
特開平4-226461号公報(特許請求の範囲)
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-001894 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (4件)

ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-001894 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-229792 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-201310 出願人：東京応化工業株式会社

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