特許
J-GLOBAL ID：200903010638118620

毛髪処理剤

発明者：
野尻 昌良

野尻 昌良 について

, 
山口 真主

山口 真主 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (11件)： 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  有賀 三幸 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  村田 正樹 ,  山本 博人 ,  的場 ひろみ ,  守屋 嘉高 ,  大野 詩木 ,  松田 政広 ,  野中 信宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-298726
公開番号（公開出願番号）：特開2008-115097
出願日： 2006年11月02日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：
【課題】過度に傷みの蓄積した毛先に生じる跳ねやうねりを抑えて本来の形状に回復させ、毛髪の感触悪化を抑え、かつ根元から毛先まで均一に染色することができる毛髪処理剤を提供すること。【解決手段】成分(a)及び(b)を含有する毛髪処理剤。 (a)一般式(1)で表され、全炭化水素基R1中、炭素数10以下の炭化水素基の占める割合が、R1の化学式量として30〜100%、残余が炭素数11以上の炭化水素基である第4級アンモニウム塩〔式中、R1は、炭素数6〜18の炭化水素基を示し、R2及びR3は同一でも異なってもよい炭素数1〜3のアルキル基を示し、nは0〜2の整数を示し、X-はアニオンを示す。〕 (b)直接染料【選択図】なし
請求項（抜粋）：
成分(a)及び(b)を含有する毛髪処理剤。 (a)一般式(1)で表され、全炭化水素基R1中、炭素数10以下の炭化水素基の占める割合が、R1の化学式量として30〜100%、残余が炭素数11以上の炭化水素基である第4級アンモニウム塩
IPC (3件)：
A61K 8/41 ,  A61Q 5/10 ,  A61Q 5/06
FI (3件)：
A61K8/41 ,  A61Q5/10 ,  A61Q5/06
Fターム (25件)：
4C083AB032 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC152 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC472 ,  4C083AC642 ,  4C083AC691 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC852 ,  4C083AC862 ,  4C083AD022 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD282 ,  4C083BB24 ,  4C083CC31 ,  4C083CC36 ,  4C083EE26 ,  4C083EE28
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (10件)
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