熱および水熱安定性の高い多孔性シリカおよびその作製法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：筒井知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-132238
公開番号（公開出願番号）：特開2003-321219
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月11日
要約：

【要約】【課題】多孔性シリカの細孔径を精密に制御するために、加熱処理による孔径などの構造変化の小さい熱および水熱安定性の高い多孔性シリカを作製できる新しい技術を提供する。【解決手段】ハロゲンイオン以外の疎水性イオン(例えば、テトラフルオロホウ酸イオン)が存在するような条件下に界面活性物質、シリカ源、ゾルゲル反応触媒、水および必要に応じて有機溶媒を含有する反応溶液を調製してゾルゲル反応を行い、生じた固体をろ過した後、乾燥して粉末にすることによって多孔性シリカを製造する。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)で表わされる界面活性物質、シリカ源、ゾルゲル反応触媒、水および必要に応じて有機溶媒を含有する反応溶液を調製してゾルゲル反応を行い、生じた固体をろ過した後、乾燥して粉末にする工程を含むことを特徴とする多孔性シリカの製造方法。【化1】〔式(1)中、Xは親水性の官能基または原子団を表わし、Yは脂肪族炭化水素または芳香族炭化水素から成る疎水性の官能基または原子団を表わし、Zはハロゲンイオン以外の疎水性イオンを表わし、ここで、Zは、カウンターイオンとしてゾルゲル反応前から界面活性物質に含まれているか、または、ゾルゲル反応時にZを含む塩として添加される。〕

Fターム (5件)：

4G073CZ54 , 4G073FB01 , 4G073FB42 , 4G073FC18 , 4G073UA06

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭62-252313
多孔体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-284216 出願人：株式会社豊田中央研究所, 株式会社デンソー
メソ多孔体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-124690 出願人：株式会社豊田中央研究所

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審査官引用 (7件)

特開昭62-252313
特開昭62-252313
多孔体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-284216 出願人：株式会社豊田中央研究所, 株式会社デンソー

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