高出力真空紫外線用合成シリカガラス大型板材およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-224450
公開番号（公開出願番号）：特開平11-060264
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年03月02日
要約：

【要約】【課題】本発明は、160〜200nmの波長域の高出力真空紫外線に対して初期透過率が高く、耐久性、それらの均一性に優れたシリカガラス大型板材及びその製造方法を提供すること。【解決手段】高純度の合成シリカガラスからなり160〜200nmの波長域で使用する高出力真空紫外線用合成シリカガラス大型板材において、該合成シリカガラス大型板材中のOH基濃度が5〜300wtppm、1cm当たりのOH基濃度変動幅が10wtppm以下であることを特徴とする高出力真空紫外線用合成シリカガラス大型板材、及びスート再溶融法によるシリカガラスシリンダーの製造、それに続く横型管引きと管開き処理による前記合成シリカガラス大型板材の製造方法。

請求項（抜粋）：

高純度の合成シリカガラスからなり160〜200nmの波長域で使用する高出力真空紫外線用合成シリカガラス大型板材において、該合成シリカガラス大型板材中のOH基濃度が5〜300wtppm、1cm当たりのOH基濃度変動幅(ΔOH/cm)が10wtppm以下であることを特徴とする高出力真空紫外線用合成シリカガラス大型板材。

IPC (5件)：

C03C 3/06 , C03B 19/09 , C03B 19/14 , C03B 20/00 , H01L 21/304 341

FI (5件)：

C03C 3/06 , C03B 19/09 , C03B 19/14 , C03B 20/00 , H01L 21/304 341 D

引用特許：

出願人引用 (7件)

紫外線照射による緻密化が抑制された石英ガラス部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-164039 出願人：株式会社ニコン
特開平2-080343
特開平2-102139

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審査官引用 (11件)

紫外線照射による緻密化が抑制された石英ガラス部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-164039 出願人：株式会社ニコン
特開平2-080343
特開平2-102139

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